產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
Edwards STP301 用于電子顯微鏡和半導(dǎo)體應(yīng)用。Edwards 的轉(zhuǎn)子可實(shí)現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。STP301 已經(jīng)由科學(xué)儀器、半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設(shè)備制造商投入使用，并得到了。
詳情介紹：
概述
Edwards STP301 用于電子顯微鏡和半導(dǎo)體應(yīng)用。Edwards 的轉(zhuǎn)子可實(shí)現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。STP301 已經(jīng)由科學(xué)儀器、半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設(shè)備制造商投入使用，并得到了。
此 STP 泵在供貨時(shí)帶有入口篩網(wǎng)。
如需完整安裝，請(qǐng)訂購(gòu)一臺(tái) STP 泵、一個(gè)控制器、一根連接電纜和一根電源電纜。
此 STP 泵在供貨時(shí)帶有入口篩網(wǎng)。
如需完整安裝，請(qǐng)訂購(gòu)一臺(tái) STP 泵、一個(gè)控制器、一根連接電纜和一根電源電纜。
應(yīng)用
- 金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
- 電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
- 薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
- 濺射
- 離子注入源，射束線泵送端點(diǎn)站
- MBE
- 擴(kuò)散
- 光致抗蝕劑脫模
- 晶體/晶膜生長(zhǎng)
- 晶片檢查
- 負(fù)載鎖真空腔
- 科學(xué)儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
- 高能物理：射束線、加速器
- 放射線應(yīng)用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢(shì)
的轉(zhuǎn)子
-
大的制程靈活性
-
無(wú)油
-
低振動(dòng)
-
高度
-
免維護(hù)
-
自動(dòng)調(diào)整
-
自行診斷功能
-
直流電機(jī)驅(qū)動(dòng)
-
無(wú)電池運(yùn)行
-
占地面積小
-
半機(jī)架控制器
技術(shù)データ
| 入口法蘭 | ISO100，CF100 |
| KF25 | |
| 抽速 |
|
| N2 | 300 ls-1 |
| H2 | 300 ls-1 |
| 壓縮比 |
|
| N2 | >108 |
| H2 | >2 x 104 |
| 加熱時(shí)的極限壓力（VG/ISO 法蘭） | 6.5 x 10-6 Pa (5 x 10-8 Torr) |
| 加熱時(shí)的極限壓力（ICF 法蘭） | 10-8 Pa (10-10 Torr) |
| 大允許進(jìn)氣口壓力（環(huán)境空氣冷卻） | 0.066 Pa (5 x 10-4 Torr) |
| 大連續(xù)壓力（環(huán)境空氣冷卻） | 13 Pa (0.1 Torr) |
| 額定速度 | 48000 rpm |
| 啟動(dòng)時(shí)間 | 3 min |
| 高入口法蘭溫度 | 120 °C |
| 輸入電壓 | 100 至 120 (± 10%) V 交流或 |
|
|
200 至 240 (± 10%) V 交流 |
| 啟動(dòng)時(shí)的功耗 | 0.55 kVA |
| 泵重量 | 11 kg |
| 控制器重量 | 7 kg |
