產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
Edwards STP603 是的渦輪分子泵，可用于的半導(dǎo)體應(yīng)用。Edwards 的轉(zhuǎn)子可實(shí)現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。這種泵已經(jīng)由半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設(shè)備制造商投入使用，并得到了。
詳情介紹：
概述
Edwards STP603 是的渦輪分子泵，可用于的半導(dǎo)體應(yīng)用。Edwards 的轉(zhuǎn)子可實(shí)現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。這種泵已經(jīng)由半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設(shè)備制造商投入使用，并得到了。
應(yīng)用
- 金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
- 電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
- 薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
- 濺射
- 離子注入源，射束線泵送端點(diǎn)站
- MBE
- 擴(kuò)散
- 光致抗蝕劑脫模
- 晶體/晶膜生長(zhǎng)
- 晶片檢查
- 負(fù)載鎖真空腔
- 科學(xué)儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
- 高能物理：射束線、加速器
- 放射線應(yīng)用：融合系統(tǒng)、回旋
| 入口法蘭 | ISO160F |
| KF40 | |
| 抽速 |
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| N2 | 650 ls-1 |
| H2 | 550 ls-1 |
| 壓縮比 |
|
| N2 | >108 |
| H2 | >105 |
| 加熱時(shí)的極限壓力（VG/ISO 法蘭） | 6.5 x 10-6 Pa |
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(5 x 10-8 Torr) |
| 加熱時(shí)的極限壓力（ICF 法蘭） | 10-7 Pa |
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(10-9 Torr) |
| 大連續(xù)壓力 | 13 Pa (0.1 Torr) |
| 額定速度 | 35000 rpm |
| 啟動(dòng)時(shí)間 | 6 分鐘 |
| 高入口法蘭溫度 | 120 °C |
| 輸入電壓 | 100 至 120 (± 10) V 交流或 |
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200 至 240 (± 10) V 交流 |
| 啟動(dòng)時(shí)的功耗 | 0.8 kVA |
| 泵重量 | 31 kg |
| 控制器重量 | 9 kg |
