產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
Edwards 防腐蝕 STP1003C 是的渦輪分子泵，可用于的半導體應用。Edwards 的轉(zhuǎn)子可實現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。這種泵已經(jīng)由半導體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設備制造商投入使用，并得到了。
詳情介紹：
概述
Edwards 防腐蝕 STP1003C 是的渦輪分子泵，可用于的半導體應用。Edwards 的轉(zhuǎn)子可實現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。這種泵已經(jīng)由半導體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設備制造商投入使用，并得到了。
應用
- 金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
- 電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
- 薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
- 濺射
- 離子注入源，射束線泵送端點站
- MBE
- 擴散
- 光致抗蝕劑脫模
- 晶體/晶膜生長
- 晶片檢查
- 負載鎖真空腔
- 科學儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
- 高能物理：射束線、加速器
- 放射線應用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
的轉(zhuǎn)子
-
大的制程靈活性
-
無油
-
低振動
-
高度
-
免維護
-
可用于嚴苛制程（C 型）
-
使用壽命延長
-
自動調(diào)整
-
自行診斷功能
-
直流電機驅(qū)動
-
無電池運行
-
占地面積小
- 半機架控制器
數(shù)據(jù)
| 入口法蘭 | ISO200F |
| KF40 | |
| 吹掃口 | KF10 |
| 抽速 |
|
| N2 | 1000 ls-1 |
| H2 | 800 ls-1 |
| 壓縮比 |
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| N2 | >108 |
| H2 | >105 |
| 加熱時的極限壓力（VG/ISO 法蘭） | 10-7 Pa |
|
|
(10-9 Torr) |
| 加熱時的極限壓力（ICF 法蘭） | 10-8 Pa |
|
|
(10-10 Torr) |
| 大連續(xù)壓力 | 13 Pa |
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|
(0.1 Torr) |
| 額定速度 | 35000 rpm |
| 啟動時間 | 6 分鐘 |
| 高入口法蘭溫度 | 120 °C |
| 輸入電壓 | 100 至 120 (± 10) V 交流或 |
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至 240 (± 10) V 交流 |
| 啟動時的功耗 | 0.8 kVA |
| 泵重量 | 31 kg |
| 控制器重量 | 9 kg |
