產(chǎn)品詳情
簡單介紹:
Edwards 的高性能 STPH451C 渦輪分子泵是為嚴苛的半導體應用而設計的。這種泵經(jīng)過實踐檢驗的性和的性能可以實現(xiàn)大的制程靈活性。STPH451C 已經(jīng)由半導體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設備制造商投入使用,并得到了。
詳情介紹:
概述
Edwards 的高性能 STPH451C 渦輪分子泵是為嚴苛的半導體應用而設計的。這種泵經(jīng)過實踐檢驗的性和的性能可以實現(xiàn)大的制程靈活性。STPH451C 已經(jīng)由半導體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設備制造商投入使用,并得到了。
應用
- 金屬(鋁)、鎢和電介質(zhì)(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
- 電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
- 薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
- 濺射
- 離子注入源,射束線泵送端點站
- MBE
- 擴散
- 光致抗蝕劑脫模
- 晶體/晶膜生長
- 晶片檢查
- 負載鎖真空腔
- 科學儀器:表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
- 高能物理:射束線、加速器
- 放射線應用:融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
的轉子
-
更高的氣體吞吐量
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大的制程靈活性
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無油
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低振動
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高度
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免維護
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可用于嚴苛制程
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使用壽命延長
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自動調(diào)整
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自行診斷功能
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直流電機驅(qū)動
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無電池運行
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占地面積小
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半機架控制器
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無污染
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少維護
-
任意方向操作
數(shù)據(jù)
入口法蘭 | ISO160K |
KF40 | |
吹掃口 | KF10 |
水冷卻接頭 | PT1/4 |
抽速 |
|
N2 | 450 ls-1 |
H2 | 300 ls-1 |
壓縮比 |
|
N2 | >108 |
H2 | 103 |
加熱時的極限壓力 | 10-7 Pa |
|
(10-9 Torr) |
大連續(xù)壓力 | 660 Pa |
|
(5 Torr) |
大氮氣吞吐量 | 2500 sccm |
額定速度 | 48000 rpm |
啟動時間 | 4 分鐘 |
高入口法蘭溫度 | 120 °C |
輸入電壓 | 100 至 120 (± 10) V 交流或 |
|
200 至 240 (± 10) V 交流 |
功耗 | 0.6 kVA |
泵重量 | 15 kg |
控制器重量 | 9 kg |