產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
STP-iX455 渦輪分子泵具有性磁力軸承和電機驅(qū)動系統(tǒng)，與上一代渦輪泵相比將振動降低了 50%。采用集成的控制器，不需要使用傳統(tǒng)的安裝于機架上的控制器及互連電纜，不需要水冷卻。
此泵的氮氣抽速為 450 ls-1。STP-iX455 極為適合電子顯微鏡、度量學(xué)、光刻和其他對振動的應(yīng)用。
詳情介紹：
概述
STP-iX455 渦輪分子泵具有性磁力軸承和電機驅(qū)動系統(tǒng)，與上一代渦輪泵相比將振動降低了 50%。采用集成的控制器，不需要使用傳統(tǒng)的安裝于機架上的控制器及互連電纜，不需要水冷卻。
此泵的氮氣抽速為 450 ls-1。STP-iX455 極為適合電子顯微鏡、度量學(xué)、光刻和其他對振動的應(yīng)用。
應(yīng)用
金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學(xué)儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
STP-iX455 渦輪分子泵具有性磁力軸承和電機驅(qū)動系統(tǒng)，與上一代渦輪泵相比將振動降低了 50%。采用集成的控制器，不需要使用傳統(tǒng)的安裝于機架上的控制器及互連電纜，不需要水冷卻。
此泵的氮氣抽速為 450 ls-1。STP-iX455 極為適合電子顯微鏡、度量學(xué)、光刻和其他對振動的應(yīng)用。
應(yīng)用
金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學(xué)儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應(yīng)用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
緊湊型設(shè)計，包括集成的控制器
性自傳感軸承系統(tǒng)
數(shù)字化 5 軸控制
與現(xiàn)有渦輪泵相比振動級別降低了 50%
可以配置為運行腐蝕性制程
自動平衡系統(tǒng) (ABS) 標準
自動減振 (AVR) 標準
列于 UL 中，具有 CE 標記，符合 SEMI® S2
數(shù)據(jù)
| 入口法蘭 | ISO100K |
| 抽速 |
|
| N2 | 300 ls-1 |
| H2 | 300 ls-1 |
| 壓縮比 |
|
| N2 | >108 |
| H2 | >1 x 104 |
| 極限壓力 | 6.5 x 10-6 Pa |
| 大工作壓力 | 1.3 x 10-1 Pa |
| 允許的前級壓力 | 67 Pa |
| 額定速度 | 55000 rpm |
| 啟動時間 | <6 分鐘 |
| 固定位置 | 任何方向 |
| 冷卻方法 | 自然冷卻（加熱和氣體泵送時進行水冷卻或空氣冷卻） |
| 潤滑油 | 不需要 |
| 前級泵 | 240 lmin-1 |
| 泄露磁通量 |
|
| 軸向方向 | <100 m/Gauss |
| 徑向方向 | <100 m/Gauss |
| 環(huán)境溫度范圍 | 0 至 40 °C |
| 存儲溫度范圍 | -25 至 55 °C |
| 重量 | 15 kg |
