產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
Edwards STPA2203C 是為半導(dǎo)體應(yīng)用而設(shè)計(jì)的渦輪分子泵。它使用的轉(zhuǎn)子，可實(shí)現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。全新的半機(jī)架控制器能夠節(jié)省更多空間，而且采用直流驅(qū)動，無需電池即可運(yùn)行。STPA2203C 已經(jīng)由半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型刻蝕、離子注入和沉積設(shè)備制造商投入使用，并得到了。
詳情介紹：
概述
Edwards STPA2203C 是為半導(dǎo)體應(yīng)用而設(shè)計(jì)的渦輪分子泵。它使用的轉(zhuǎn)子，可實(shí)現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。全新的半機(jī)架控制器能夠節(jié)省更多空間，而且采用直流驅(qū)動，無需電池即可運(yùn)行。STPA2203C 已經(jīng)由半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型刻蝕、離子注入和沉積設(shè)備制造商投入使用，并得到了。
應(yīng)用
- 金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
- 電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
- 薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
- 濺射
- 離子注入源，射束線泵送端點(diǎn)站
- MBE
- 擴(kuò)散
- 光致抗蝕劑脫模
- 晶體/晶膜生長
- 晶片檢查
- 負(fù)載鎖真空腔
- 科學(xué)儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
- 高能物理：射束線、加速器
- 放射線應(yīng)用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
的轉(zhuǎn)子設(shè)計(jì)
-
更高的氣體吞吐量
-
大的制程靈活性
-
無污染
-
少維護(hù)
-
可用于嚴(yán)苛制程
-
使用壽命延長
-
占地面積小
-
半機(jī)架控制器
-
自動調(diào)整
-
自行診斷功能
-
直流電機(jī)驅(qū)動
-
無電池運(yùn)行
數(shù)據(jù)
| 入口法蘭 | ISO250F |
| KF40 | |
| 吹掃口 | KF10 |
| 水冷卻接頭 | PT1/4 |
| 抽速 |
|
| N2 | 2200 ls-1 |
| H2 | 1700 ls-1 |
| 壓縮比 |
|
| N2 | >108 |
| H2 | >2.5 x 104 |
| 極限壓力 | 10-6 Pa |
|
|
(10-8 Torr) |
| 允許的大前級壓力 | 400 Pa |
|
|
(3 Torr) |
| 大氮?dú)馔掏铝? | 1500 sccm |
| 額定速度 | 27000 rpm |
| 啟動時(shí)間 | 7 分鐘 |
| 固定位置 | 任意 |
| 水冷卻流量 | 2 lmin-1 |
| 水冷卻溫度 | 5-25 °C |
| 壓力 | 0.3 MPa |
| 的吹掃氣體流量 | 20 sccm |
| 輸入電壓 | 200 至 240 (± 10) V 交流 |
| 功耗 | 1.5 kVA |
| 泵重量 | 61 kg |
| 控制器重量 | 12 kg |
